წიგნების ძებნა
წიგნები
დახმარება
შესვლა
შესვლა
ავტორიზებულ მომხმარებლებს აქვთ წვდომა:
პერსონალური რეკომენდაციები
Telegram ბოტი
ჩამოტვირთვის ისტორია
გაგზავნეთ Email-ზე ან Kindle-ზე
კრებულების მართვა
შენახვა რჩეულებში
პირადი
წიგნის მოთხოვნა
შესწავლა
Z-Recommend
წიგნების სარჩევი
ყველაზე პოპულარული
კატეგორია
მონაწილეობა
დახმარება
ატვირთვები
Litera Library
ქაღალდის წიგნების შეწირვა
ქაღალდის წიგნების დამატება
Search paper books
ჩემი LITERA Point
საკვანძო სიტყვების ძებნა
Main
საკვანძო სიტყვების ძებნა
search
1
Chemical Mechanical Polishing in Silicon Processing
Academic Press
R.K. Willardson and Eicke R. Weber (Eds.)
cmp
slurry
wafer
polishing
polish
oxide
rate
thickness
surface
density
chemical
removal
planarization
particles
layer
modeling
slurries
effects
processes
wafers
mechanical
step
particle
semiconductors
silicon
materials
volume
cleaning
nonuniformity
tungsten
systems
edge
effect
technology
carrier
pads
semiconductor
daytank
tools
scale
contamination
height
manufacturing
models
polisher
shown
erosion
conditioning
effective
measurement
წელი:
1999
ენა:
english
ფაილი:
PDF, 13.60 MB
თქვენი თეგები:
0
/
0
english, 1999
2
Chemical Mechanical Polishing in Silicon Processing
Academic Press
cmp
slurry
wafer
polishing
polish
oxide
rate
thickness
surface
density
chemical
removal
planarization
particles
layer
modeling
slurries
effects
processes
wafers
mechanical
step
particle
semiconductors
silicon
materials
volume
cleaning
nonuniformity
tungsten
systems
edge
effect
technology
carrier
pads
semiconductor
daytank
tools
scale
contamination
height
manufacturing
models
polisher
shown
erosion
conditioning
effective
measurement
წელი:
1999
ენა:
english
ფაილი:
PDF, 13.51 MB
თქვენი თეგები:
0
/
0
english, 1999
1
მიჰყევით
ამ ბმულს
ან Telegram-ში მოძებნეთ „@BotFather“ ბოტი
2
გაგზავნეთ ბრძანება /newbot
3
შეიყვანეთ თქვენი ბოტის სახელი
4
შეიყვანეთ მომხმარებლის სახელი ბოტისთვის
5
დააკოპირეთ BotFather-ისგან ბოლო შეტყობინება და ჩასვით აქ
×
×